錸金屬系列

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其它稀貴金屬系列

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高純鎢靶鎢鈦靶

高純鎢靶和高純鎢鈦合金靶、鎢硅復(fù)合靶材通常被施以磁控濺射的方式制作各種復(fù)雜和高性能的薄膜材料。由于高純鎢或超純鎢（5 N或6 N）具有對(duì)電子遷移的高電阻、高溫穩(wěn)定性以及能形成穩(wěn)定的硅化物，在電子工業(yè)中常以薄膜形式用作柵極、連接、過(guò)渡和障礙金屬。超高純鎢及其硅化物還用于超大規(guī)模集成電路作為電阻層、擴(kuò)散阻擋層等以及在金屬氧化物半導(dǎo)體型晶體管中作為門材料及連接材料等。鎢鈦合金濺射靶材常用于制作薄膜系太陽(yáng)能電池的過(guò)渡金屬層。

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產(chǎn)品描述

參數(shù)

用途：

規(guī)格：

名稱	分子式	規(guī)格	尺寸		相對(duì)密度	晶粒度	缺陷率
純鎢靶	W	4N（99.99%）	英寸	毫米	≥99%	≯50µm	0
		5N（99.999%）	D（6,8,10,12） H（0.25,0.5,0.75）	直徑150～350 厚度6～25
鎢鈦靶	WTi10 WTi20	4N（99.99%）			≥99%	≯50µm	0
		4N5（99.995%）

化學(xué)成分

規(guī)格等級(jí) 化學(xué)指標(biāo)			W/(W+Ti)≥99.99%			W/(W+Ti)≥99.995%				W≥99.999%
痕量雜質(zhì)總和			≯100 ppm			≯50 ppm				≯10 ppm
雜質(zhì)指標(biāo)(ppm)			最大值		典型值	最大值		典型值		最大值		典型值
放射性元素	U		—		0.2	0.1		0.05		0.0008		0.0005
	Th		—		0.2	0.1		0.05		0.0008		0.0005
堿金屬元素	Li		1		0.05	0.02		0.01		0.01		0.003
	Na		5		1	0.5		0.2		0.1		0.05
	K		5		1	0.1		0.05		0.05		0.03
Mo，Re			10		5	10		5		1		0.5
Fe，Cr			10		5	5		3		0.5		0.3
Ca，Si，Cu，Ni，Al，Zn，Sn，Mn，Co，Hg，V			2		1	0.5		0.3		0.2		0.2
P，As，Se			2		1	0.5		0.2		0.2		0.2
B，Pb，Sb，Be，Ba，Bi，Cd，Ge，Nb，Pt，Mg，Zr，Au，In，Ga，Ag			1		0.5	0.5		0.1		0.1		0.1
其它所有單個(gè)元素			1		0.5	0.5		0.1		0.1		0.1
氣體分析（≯，ppm）		O		C			N		H		S
		30		20			20		20		10