解決方案
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光電行業(yè)真空鍍膜耗材解決方案
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詳情描述
參數(shù)
真空鍍膜有三種形式：蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍，是目前以物理氣相沉積法（PVD）方式實現(xiàn)膜生長的主流技術(shù)。歐泰稀材生產(chǎn)供應(yīng)各類形態(tài)的高純金屬蒸發(fā)料、濺射靶材，確保用戶得到好的鍍膜品質(zhì)。
1、蒸發(fā)鍍膜
通過在真空中加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其產(chǎn)生金屬蒸氣沉積（凝聚）在固體表面成為薄膜。
2、濺射鍍膜
用高能粒子轟擊被沉積材料（靶材）表面，使靶材表面粒子獲得能量并逸出表面，而后沉積在基片上獲得薄膜。
3、離子鍍
被蒸發(fā)物質(zhì)的分子（原子）被電子碰撞電離后，以離子形態(tài)沉積在基片表面生成薄膜。
未找到相應(yīng)參數(shù)組，請于后臺屬性模板中添加
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攪拌摩擦焊解決方案
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