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半導體設備MOCVD熱場解決方案
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詳情描述
參數(shù)
金屬有機物化學氣相沉積(Metal Organic Chemical Vapor Deposition，簡稱 MOCVD)是制備混合半導體器件、金屬及金屬氧化物、金屬氮化物薄膜材料的一種芯片外延技術。加熱系統(tǒng)是 MOCVD 設備的重要組成部分，它能否快速、均勻的加熱襯底，直接影響著薄膜沉積的質(zhì)量、厚度一致性，以及芯片的性能。錸因擁有10年MOCVD用錸加熱器專業(yè)制作技術經(jīng)驗及完善的品控管理體系，是替代MOCVD用錸加熱器進口大牌或原廠配件，能夠進行OEM全工序代工代制，最具技術開發(fā)實力和品質(zhì)保障能力的國內(nèi)頭號廠家。
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